Технологии субмикронных структур микроэлектроники, Достанко А.П., 2018.
Рассмотрены и обобщены результаты исследований и разработок в области технологии и оборудования для производства и диагностики субмикронных структур полупроводниковой микроэлектроники. Предназначена для инженерно-технических работников предприятий электронной и других отраслей промышленности, специалистов научно-исследовательских институтов, аспирантов, магистрантов и студентов старших курсов технических вузов.

Активирование поверхности твердых тел и плазменная очистка.
Перед проведением ряда технологических процессов (например, высокотемпературное окисление, первая фотолитография, нанесение металлической либо диэлектрической пленки и т. д.) следует провести очистку подложек для удаления как органических, так и неорганических загрязнений в виде инородных атомов и молекул, появляющихся на предыдущих этапах технологических процессов или во время переноса подложек с одной технологической линии на другую. Если такие загрязнения не удалить, то возможно ухудшение электрических характеристик приборов, а также понижение надежности интегральных схем (ИС).
ОГЛАВЛЕНИЕ.
Введение.
Глава 1.СВЧ плазменные технологии при создании микро- и наноструктур изделий электронной техники.
Глава 2.Формирование ячеек сегнетоэлектрической энергонезависимой памяти.
Глава 3.Формирование субмикронных функциональных слоев в микроэлектронных изделиях.
Глава 4.Бессвинцовые материалы для контактных соединений в изделиях электроники.
Глава 5.Технологические процессы и оборудование для сборки многокристальных модулей.
Глава 6.Лазерная активация электрохимических процессов формирования субмикронных структур.
Глава 7.Диагностика субмикронных структур полупроводниковой микроэлектроники.
Купить .
Теги: Достанко :: книги по микроэлектронике :: микроэлектроника :: полупроводники