Изложены основы различных химических и физико-химических методов обработки поверхности полупроводников. Описаны методы химико-механического, химико-динамического, электрохимического, фотохимическою, фотоэлектрохимического и плазмохимического травления и полирования монокристаллических подложек из кремния, германия и соединений AIIIBV, а также химические и электрохимические методики локального травления полупроводников, препарирования кристаллов и эпитаксиальных структур. Систематизированы методы межоперационной и финишной очистки полупроводников от различных загрязнение. Для инженеров-технологов, занимающихся разработкой и производством полупроводниковых микроприборов и интегральных микросхем.









Подписаться на RSS ленту ГДЗ, ЕГЭ, ГИА, подготовка к экзаменам, книги, готовые домашние задания, наука и обучение, анекдоты, презентации, словари, все для преподавателей, школьников для всех классов и студентов всех курсов. А ты Нашёл то, что тебе нужно?